Eumetrys fournit des équipements et des services aux applications variées dans l’industrie des semiconducteurs et des compound semiconductors. Les outils de métrologie optique, d’inspection particulaire et de mesure d’épaisseur de couche doivent s’intégrer dans un environnement innovant et exigeant. C’est pourquoi nous portons une attention particulière à répondre aux besoins exprimés par les industriels et laboratoires de R&D grâce à notre équipe de spécialistes.
L’offre Eumetrys permet de couvrir les exigences des fabricants de puces électroniques, MEMS, LED, guides d’ondes ou encore de substrats. La gamme Inspectrology IVS est conçue pour soutenir les process de lithographie en proposant une métrologie optique efficace et au coût maîtrisé. L’analyse de marques d’alignement (Overlay registration) permet la qualification, et le contrôle de stepper ainsi que la réalisation de tests de capabilité. Par ailleurs, les Inspectrology IVS offrent des mesures submicroniques de dimensions critiques (CD) permettant notamment l’analyse de structures 3D.
Nos équipements d’inspection particulaire sont quant à eux utilisés pour analyser la contamination de surface de wafers transparents et opaques. L’inspection de plaques Epi ou bien filmées SiC est très exigeante et demande de relever des défis technologiques importants. Les produits YGK YPI-MX combinés aux services d’Eumetrys ont réussi ce pari et accompagnent les industriels des compound semiconductors.
Eumetrys propose également une solution de réflectométrie principalement destinée au laboratoires de Recherche & Développement. L’EFiT-TT est un équipement compact de table analysant l’uniformité d’épaisseur de films, la distribution de l’épaisseur de plusieurs couches ou encore des structures complexes (tranchées, trous et toutes autres topographies).
L’offre Eumetrys permet de couvrir les exigences des fabricants de puces électroniques, MEMS, LED, guides d’ondes ou encore de substrats. La gamme Inspectrology IVS est conçue pour soutenir les process de lithographie en proposant une métrologie optique efficace et au coût maîtrisé. L’analyse de marques d’alignement (Overlay registration) permet la qualification, et le contrôle de stepper ainsi que la réalisation de tests de capabilité. Par ailleurs, les Inspectrology IVS offrent des mesures submicroniques de dimensions critiques (CD) permettant notamment l’analyse de structures 3D.
Nos équipements d’inspection particulaire sont quant à eux utilisés pour analyser la contamination de surface de wafers transparents et opaques. L’inspection de plaques Epi ou bien filmées SiC est très exigeante et demande de relever des défis technologiques importants. Les produits YGK YPI-MX combinés aux services d’Eumetrys ont réussi ce pari et accompagnent les industriels des compound semiconductors.
Eumetrys propose également une solution de réflectométrie principalement destinée au laboratoires de Recherche & Développement. L’EFiT-TT est un équipement compact de table analysant l’uniformité d’épaisseur de films, la distribution de l’épaisseur de plusieurs couches ou encore des structures complexes (tranchées, trous et toutes autres topographies).
