Métrologie optique & Inspection particulaire
pour compound semiconductor III-V
Systèmes IVS de métrologie optique CD et Overlay,
Inspection Particulaire pour substrats transparents et opaques
La variété des semi-conducteurs composés III-V a favorisé le besoin de contrôler et de suivre quotidiennement la qualité du matériau, l’épaisseur de dépôt et la taille du motif sur des substrats complexes comme le GaN, GaAs, LiNb03, InP, Saphire et SiC. Aujourd’hui, ces matériaux sont largement impliqués dans la réduction de la consommation électrique et sont considérablement plus utilisés même dans les sites de production de semi-conducteurs standards.

Plusieurs usines utilisent majoritairement des matériaux III-V plutôt que des semi-conducteurs standards pour améliorer la consommation électrique ou pour accélérer les échanges au travers du dispositif de télécommunication. C’est pourquoi, ces matériaux affectent le rendement final du composant et les mesures que ce soit dans des cellules spécifiques ou à l’intérieur du dispositif, sont essentielles au calcul du retour sur investissement.
 
Eumetrys et ses partenaires Inspectrology, Shashin Kagaku et YGK, se concentrent en permanence à fournir le support le plus flexible et le plus fiable pour un grand nombre de processus de contrôles et de mesures, clé de voute de la performance de la production, laissant ainsi les clients se concentrer sur les performances de leurs dispositifs.

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