Système de métrologie optique automatisé
Représentant Européen des produits Inspectrology IVS

Produits


Système optique IVS clé en main pour mesures de Dimensions Critiques et d’alignement de couches (Overlay Registration)

EUMETRYS, EUropeanMETRologysYStem, est une entreprise de service dédiée au support de systèmes de métrologie optique pour les usines européennes de semi-conducteurs, semi-conducteurs composés, MEMs et LED.
 
Grâce à un important nombre d’années d’expertise dans la mesure optique, EUMETRYS vend des systèmes de métrologie optique automatisés et leurs pièces détachées, fournit du support applicatif, de la maintenance et dispense des formations aux utilisateurs (process et maintenance) pour les usines de micro systèmes électromécaniques (MEMs), semi-conducteurs, semi-conducteurs composés (GaAs, GaN, SiC, InP) et LED (Light Emitting Diode).

EUMETRYS est le représentant en Europe du fabricant d’équipement d’origine INSPECTROLOGY LLC pour vendre et développer sa gamme de produits IVS.
 


Nouveau modèle : l’outil Inspectrology IVS 200

EUMETRYS vend désormais le meilleur système rapport qualité prix de mesures optiques automatisées  du marché, l’outil IVS 200

Le nouveau modèle IVS 200, grâce à une nouvelle interface utilisateur semi-standard, démontre ses performances avancées en rapport des modèles précédents de la marque IVS, les systèmes IVS 1x. Plus que des mesures automatiques classiques de dimensions critiques (CD) et d’alignement de couches (Overlay), l’IVS 200 offre un large panel d’algorithmes de métrologie permettant la mesure d’innombrables structures pour les industries du semi-conducteur, des MEMS, LED, puissances et photoniques. Par exemple, le système permet aux utilisateurs de mesurer des vias grâce à un nouvel algorithme d’ajustement circulaire et certaines largeurs de ligne sous plusieurs orientations.

Le nouveau modèle IVS 200 offre une grande flexibilité en termes de mesures pour permettre son utilisation dans les semi-conducteurs composés (Compound) ainsi que dans les semi-conducteurs tout en maintenant un excellent temps de cycle (TPUT) et un rapport coût-efficacité le plus avantageux du marché.

Pour obtenir la brochure de l’IVS 200 (PDF) Cliquez ici
 


Chargement flexible sur les systèmes IVS : De 75mm à 200mm sans aucune modification
 
 
EUMETRYS vend un système de métrologie optique automatisé pour des chargements flexibles à destination des industries du semi-conducteurs, MEMS, LED, puissances et photoniques.

L'outil de mesures optiques IVS 200 est spécialisé dans les mesures de CD (dimensions critiques ou largeur de ligne) et les mesures de marques d'alignement (Overlay Registration). 
Il est construit pour gérer divers types et tailles de substrats du 3'' jusqu'au 8'' sans aucun changement du système. Il peut mesurer des substrats transparents mais aussi des wafers en silicium collé (bonded wafer) sans aucun changement du système là-aussi.

EUMETRYS représente INSPECTROLOGY et sa gamme de produits en Europe. Nous vendons le nouveau modèle IVS 200 avec le meilleur coût de possession du marché des substrats de taille 200 mm et de tailles plus réduites.

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Modèles reconditionnés et mise à jour vers le modèle IVS 200

Pour tenir compte des différents budgets, nous proposons aussi des systèmes de seconde main mais en conservant la même garantie et spécifications que des outils neufs
         
Avec Inspectrology, nous pensons que chaque client doit pouvoir trouver une solution rentable avec nos solutions. C’est pourquoi, nous avons décidé de fournir un système de seconde main totalement reconditionné par nos services.
 
Nos sites de production s’appuient sur leurs expertises pour reconditionner les différents systèmes d’origine IVS120 / IVS130 / IVS135 / IVS155 / IVS165 / IVS185 que nous avons construit au fil des années et que nous mettons à jour vers la dernière version du logiciel et d’interface de l’IVS 200.
 
Tous ces systèmes sont livrés avec leurs spécifications originelles garanties, acceptance, formation et garantie de 12 mois. Ils sont totalement pris en charge par nos services et par le support technique de l’usine tel que pour un outil neuf.

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Mises à jour disponibles vers l’IVS 200
          
Tous les modèles officiels IVS peuvent être mis à jour vers la dernière version du système IVS 200 : nouveau logiciel et sa nouvelle interface semi-standard Windows 7 et ainsi profiter d’une amélioration des performances.
 
Les modèles originaux IVS 1x bénéficieraient d’une amélioration de 20% en précision, 30% en temps de cycle (TPUT) et retrouveraient une servicabilité totale en éliminant l’obsolescence des pièces qui la composent actuellement.
 
Deux options de mises à jour sont proposées par nos services :
 
1 - Mise à jour sur site. La garantie ne couvrira que les pièces remplacées et le nouveau logiciel de l’IVS200

2 - Mise à jour de reconditionnement dans notre usine. L’outil sera livré avec un 1 an de garantie complète 

EUMETRYS réalise les différents mises à jour des systèmes IVS et fournit toutes les pièces détachées nécessaires à la gamme de produits IVS (pour tous les modèles).

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Les possibilités de la marque IVS

Le système de métrologie optique IVS, plateforme automatisée avancée, peut mesurer des wafers de 75mm à 200mm sans aucun changement hardware tout en offrant les capacités suivantes

Pour les substrats transparents, nous avons développé un système IVS dédié utilisant un système pour alignement transparent basé sur une imagerie innovante ; Cela permet des mesures de wafers transparents et de substrats aux technologies avancées comme le Verre, Quartz, GaN, GaAs, LiN, InP et SiC.

Mesures de dimensions critiques (CD) et d’alignement de couches (Overlay) dans la même recette – Pour le suivi de production standard
 
Cet outil est en mesure de localiser et de mesurer des CD, Overlay ou d’autres motifs à l’intérieur de la puce pour répondre à des besoins de contrôle de la production.
 

Mesure de CD dans la puce (Insight CD)
 

Mesure de marques d’alignement (Overlay) dans la puce (Insight Overlay)

Des mesures sub-microniques de CD ou de pitch pour technologies avancées jusqu’à des mesures de grands CD ou pitch grâce à de puissants objectifs de 2.5X à 150X
 
Afin de répondre aux besoins de plusieurs clients, le logiciel de l’IVS200 permet à l’utilisateur de mesurer des CD standards mais aussi des CD sub-microniques et de très grands CD de la taille du champ de vision du microscope.
 

Mesures CD sub-microniques ou Pitch
 

Mesures de grand CD ou Pitch

Nouveaux substrats SiC / InP
 
Le système IVS200 est capable de mesurer des motifs sur des substrats complexes grâce à son option de mesures transparentes utilisée dans les industries des puissances, guides d’ondes et photoniques et pour les produits VCSEL.
                         
Le système IVS200 est actuellement utilisé par la plupart des fabricants de semi-conducteurs composés (Compound) aux importants volumes de production.
 

Crête CD des photoniques
 

Ouverture Laser pour VCSEL

Algorithme de mesures structurelles 3D
 
Les métrologies de structures MEMs, CD, hauteur de CD et VIA (grâce à des capacités de mesures par ajustement circulaire) sont régulièrement utilisées par les ingénieurs process en charge des systèmes IVS.
          
La flexibilité du logiciel de l’IVS200 permet aux clients de réaliser des mesures de contrôle sur des couches complexes à l’intérieur de la puce ou le long de la ligne de découpe des substrats.
 

Vias complexes dans la puce
 

Tête d’impression jet d’encre (MEMs)

Mesures de structures LED, VCSEL, Laser et métrologie Vias
 
Avec l’avènement des nouvelles technologies, la demande des clients a évolué et le système IVS200 s’est alors adapté. L’outil offre un nouvel algorithme de mesure de Via et de nouvelles capacités de mesures d’ouverture de VCSEL par exemple.
 

Mesure de Via dans la puce
 

Mesure d’ouverture de VCSEL

Capacité reconnue de mesures d’Overlay pour les processus du Semi-conducteur jusqu’à 110nm
 
Le système IVS200 est une solution rentable pour mesurer des marques d’alignement dans des couches et des structures complexes pour des processus jusqu’à 110nm.
 

Mesures d’Overlay TiN
 

Marque d’alignement Semi Standard pour des couches avancées

Mesures spécifiques de très grands Overlay au LETI – Nano-Impression Lithographie (NIL)
 
 
 

Mesures CD ou Pitch sub-microniques
 

 

Mesures de motifs d’Overlay exotiques et de Verniers
 
Dans les nouvelles productions de semi-conducteurs composés, les mesures d’Overlay n’utilisent pas toujours les caractéristiques SEMI standards.
         
Le système IVS200 permet des mesures d’Overlay non standards comme croix dans des croix, verniers, (liste non exhaustive) …
           
Pour chaque demande de client, notre équipe Applications travaille à trouver une solution pour y répondre.
 

Motif d’alignement de couche (Overlay) exotique
 

Overlay verniers

IVS200 en Réalité Virtuelle

La société EUMETRYS est fière d’annoncer à ses clients sa technologie en utilisant la Réalité Virtuelle et ce grâce à une interface directement disponible sur notre site web.

Nous utilisons la Réalité Virtuelle 3D afin de présenter les capacités de l’IVS200 à nos clients. Nous avons décidé d’utiliser cette technologie directement accessible depuis notre site internet pour donner à nos clients la possibilité d’examiner les possibilités de mesures du système. Il est également possible d’utiliser la Réalité Augmentée pour visualiser le faible encombrement que représente ce système automatisé de mesures CD et Overlay.

L’entreprise NUMIX, spécialiste des Réalités Virtuelle et Augmentée, a conduit le projet de mettre en exergue la valeur ajoutée des produits IVS200. Ils nous ont aidé à intégrer la polyvalence des systèmes IVS et la flexibilité des mesures.

La 3D montre toutes les options disponibles qui sont proposées sur le système : Automatisation HSMS-GEM, accès de l’outil IVS à distance, génération de recettes depuis un serveur (offline recipes generation), génération de recettes grâce au CAD, lecture de l’identification du substrat OCR, nouveaux modèles de mesure sur demande pour répondre à vos besoins.